Tại hội chợ công nghiệp Thượng Hải, công ty khởi nghiệp Langdao Silex vừa công bố nguyên mẫu nguồn phát tia cực tím cực ngắn EUV với tỷ lệ nội địa hóa lên đến 90%.
- Công ty Langdao Silex giới thiệu nguyên mẫu hệ thống nguồn sáng quang học EUV – FlintNano LPP-OXXO – tại Thượng Hải.
- Thiết bị ứng dụng cơ chế tạo tia cực tím từ plasma do laser kích phát với công suất laser 1000W và công suất phát xạ EUV trên 15W.
- Đơn vị phát triển tự tin đạt tỷ lệ linh kiện nội địa 90%, song giới chuyên môn nhận định chặng đường thương mại hóa còn mất từ 8 đến 10 năm.
Tại kỳ Hội chợ Công nghiệp Quốc tế Trung Quốc lần thứ 26 vừa khai mạc tại thành phố Thượng Hải, startup Langdao Silex đã gây chấn động khi chính thức công bố nguyên mẫu nguồn sáng EUV đầu tiên do chính họ nghiên cứu. Cỗ máy mang định danh FlintNano LPP-OXXO được giới thiệu là thành quả tự chủ công nghệ sau nhiều năm miệt mài nghiên cứu trong phòng thí nghiệm, đại diện cho mắt xích quan trọng nhất trong toàn bộ quy trình chế tạo máy in vi mạch bán dẫn hiện đại. Sự kiện này lập tức thắp lên niềm hy vọng cho giới công nghệ đại lục về một ngày không xa có thể tự tay gia công nên những con chip đỉnh cao mà không cần phải nhìn sắc mặt của các tập đoàn phương Tây.
Dòm sâu vào khía cạnh cơ khí quang học, nguyên mẫu của Langdao Silex ứng dụng công nghệ plasma do laser tạo ra, hoàn toàn tương đồng với nguyên lý vận hành trên các cỗ máy in thạch bản tối tân của gã khổng lồ ASML. Theo thông số do nhà phát triển công bố, hệ thống sử dụng nguồn laser kích phát có công suất lên tới 1000W, tần số phát xung dao động từ 1 đến 20kHz với hiệu suất chuyển đổi năng lượng vượt mốc 2%. Nguồn bức xạ tia EUV đo được đạt công suất từ 15W trở lên và có khả năng vận hành ổn định liên tục trong hơn 100 giờ với độ lệch năng lượng chỉ khoảng 5%. Đại diện công ty khẳng định hệ số hoạt động hiện tại đã đủ tiêu chuẩn kỹ thuật để phục vụ các bài thử nghiệm phơi sáng trực tiếp trên các tấm wafer mẫu.
Vậy nhưng từ 1 khối nguồn phát tia sáng trong phòng thí nghiệm cho đến việc lắp ráp thành hệ thống in vi mạch hoàn chỉnh hoạt động ổn định trong nhà máy là khoảng cách mênh mông như biển trời. Dù startup này lạc quan dự báo họ chỉ cần từ 3 đến 5 năm để tiến tới sản xuất thương mại quy mô lớn, hầu hết các chuyên gia phân tích bán dẫn quốc tế đều đánh giá đây là viễn cảnh quá đỗi màu hồng. Một hệ thống máy in quang học EUV hoàn chỉnh đòi hỏi sự phối hợp nhịp nhàng của hàng trăm ngàn linh kiện siêu chính xác, từ các thấu kính phản xạ quang học phẳng tuyệt đối do hãng Zeiss độc quyền chế tạo, cho đến các bàn di chuyển wafer tốc độ cao trong môi trường chân không, những thứ mà chuỗi cung ứng nội địa Trung Quốc hiện nay vẫn chưa thể tự chủ đồng bộ.
Ngặt nỗi, theo ước tính thực tế từ các chuyên gia đầu ngành quang học, thời gian để một doanh nghiệp non trẻ hoàn thiện toàn bộ hệ sinh thái máy in EUV thương mại có thể phải kéo dài từ 8 đến 10 năm, thậm chí là 15 năm như nhận định của lãnh đạo hãng kính Zeiss. ASML vì thế chưa có lý do gì phải mất ăn mất ngủ trước nguyên mẫu vừa xuất hiện tại Thượng Hải. Tuy nhiên, sự ra đời của FlintNano LPP-OXXO là lời cảnh báo cho thấy chính sách cấm vận xuất khẩu công nghệ của Mỹ đang vô tình kích thích nguồn lực nội sinh của Trung Quốc trỗi dậy mạnh mẽ hơn bao giờ hết, dần thu hẹp khoảng cách công nghệ mà thế giới phương Tây từng nghĩ là bất khả xâm phạm.
